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開催情報 : <<2019年度 第4回 フォトニクス技術フォーラム研究会のご案内>>
投稿者 : 管理者 投稿日時: 2020.03.24

2019年度 第4回 フォトニクス技術フォーラム研究会を開催いたしました。
多数の方にご参加いただき、無事、盛況裏にて閉会致しました。
ご講演頂きました講師先生ならびに参加皆様のご支援・ご協力に深謝申し上げます。

開催情報  

【日 時】2020年1月21日 (火) 13:30 〜 17:10
【場 所】大阪科学技術センター
【研究会テーマ】 「光による高精度加工」

【講 演】
  題 目:「深紫外光を含む超短パルスレーザー加工プラットフォーム」
  講演者:産業技術総合研究所
      産総研・東大 先端オペランド計測技術オープンイノベーションラボラトリ
      先進コヒーレント光プロセスチーム  ラボチーム長 黒田 隆之助 氏

  題 目:「Nanoscribeの超高精細3Dプリンタで創る何か新しいもの」
  講演者:(株)株式会社日本レーザー システム機器部
               部長    鶴田 逸人 氏

  題 目:「レーザ微細加工と表面機能制御」
  講演者:慶應義塾大学 理工学部 機械工学科
               教授    閻 紀旺 氏

【交流会】 交流会


参加申し込み
お問合せ
(一財)大阪科学技術センター
技術振興部
〒550-0004
大阪市西区靱本町1-8-4
TEL : 06-6443-5320
FAX : 06-6443-5319
MAIL: yamaguchi@ostec.or.jp
    yoneda@ostec.or.jp
担当: 山口 克彦,米田 祥子
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